透射电子显微镜和扫描电子显微镜的区别是什么，透射电子显微镜和扫描电子显微镜的区别

很多朋友对透射电子显微镜和扫描电子显微镜的区别是什么，透射电子显微镜和扫描电子显微镜的区别不是很了解，每日小编刚好整理了这方面的知识，今天就来带大家一探究竟。

电子显微镜和光学显微镜的成像原理基本相同，不同的是前者以电子束为光源，以电磁场为透镜。此外，由于电子束的穿透力很弱，用于电子显微镜的标本必须制成超薄切片，厚度约为50nm。这种切片需要用超薄切片器制作。

一台电子显微镜的放大倍数可达近百万倍，它由照明系统、成像系统、真空系统、记录系统和电源系统五部分组成。如果细分，主要部分是电子透镜和成像记录系统，由电子枪、聚光镜、样品室、物镜、衍射镜、中间镜、投影镜、荧光屏和置于真空中的相机组成。

电子显微镜是一种用电子显示物体内部或表面的显微镜。高速电子的波长比可见光短(波粒二象性)，显微镜的分辨率受到所用波长的限制，所以电子显微镜的理论分辨率(约0.1 nm)比光学显微镜(约200 nm)高得多。透射电镜和扫描电镜的区别如下1、结构区别：

主要体现在样品在电子束路径上的不同位置。透射电镜样品在电子束中间，电子源在样品上方发射电子，经过聚光镜，然后穿透样品，然后后续的电磁透镜继续放大电子束，最后投射到荧光屏上；扫描电镜的样品在电子束的末端，样品上方的电子源发出的电子束经过几个电磁透镜缩小后到达样品。

当然，后续的信号检测侧处理系统的结构会有所不同，但在基本的物理原理上并没有实质性的区别。

2、基本工作原理：

透射电镜：电子束通过样品时，会与样品中的原子发生散射，同时通过样品上某一点的电子方向不同，使产品上的这个点在物镜焦距的1 ~ 2倍之间，这些电子被物镜放大后再次会聚，形成该点的放大实像，这与凸透镜成像原理相同。

这里就不说对比度形成机制的理论了，但是可以想象，如果样品内部是绝对均匀的物质，没有晶界，没有原子晶格结构，那么放大的图像就不会有对比度。其实这种物质是不存在的，所以会有这个仪器存在的理由。

扫描电子显微镜：电子束到达样品，激发样品中的二次电子。二次电子被探测器接收，显示器上的像素通过信号处理被调制发光。由于电子束点的直径为纳米，显示器的像素大于100微米，因此100微米以上的像素发出的光代表样品上被电子束激发的区域发出的光。实现样品上这个物点的放大。

如果电子束在样品的某个区域进行光栅扫描，并且显示器像素的亮度根据几何排列进行相应的调制，则可以实现该样品区域的放大成像。

3、样品要求(1)扫描电子显微镜

SEM制样对样品的厚度没有特殊要求，可以通过切割、研磨、抛光或解理的方式呈现特定的断面，使其转化为可观察的表面。如果直接观察这样的表面，只能看到表面加工损伤。通常，不同的化学溶液应用于优先腐蚀，以产生有利于观察的对比。但腐蚀会使样品失去部分原结构的真实情况，同时引入一些人为干扰，对于样品中厚度极小的薄层会造成较大误差。

（2）透射电镜

由于TEM得到的显微图像的质量强烈依赖于样品的厚度，因此样品观测部位要非常的薄，例如存储器器件的TEM样品一般只能有10100nm的厚度，这给TEM制样带来很大的难度。初学者在制样过程中用手工或者机械控制磨制的成品率不高，一旦过度削磨则使该样品报废。

TEM制样的另一个问题是观测点的定位，一般的制样只能获得10mm量级的薄的观测范围，这在需要精确定位分析的时候，目标往往落在观测范围之外。目前比较理想的解决方法是通过聚焦离子束刻蚀（FIB）来进行精细加工。

以上知识分享希望能够帮助到大家！