中威半导体设备公司的5nm蚀刻机已经在

很多朋友对中威半导体设备公司的5nm蚀刻机已经在不是很了解，每日小编刚好整理了这方面的知识，今天就来带大家一探究竟。

.量产，除了众所周知的光刻机，半导体设备的生产还需要各种设备。国内的中威半导体设备公司已经能够生产高端的刻蚀设备，其5nm蚀刻机已经量产并在TSMC的5nm生产线上使用。中威半导体上周末发布2019年财报，实现全年营业收入19.47亿元，同比增长18.77%；归母净利润1.89亿元，同比增长107.51%。

公司年报显示，中威公司研发的高端刻蚀设备已用于国际知名客户65nm-7nm范围的芯片生产线。同时，公司根据先进集成电路厂商的需求，开发了几个关键步骤的5nm刻蚀设备，并获得了行业领先客户——的批量订单。虽然中威没有说清楚，但是这个客户是TSMC，只有他们有量产的5 nm工艺。

目前公司正在研发包括大马士革在内的新一代刻蚀设备和刻蚀技术，可以覆盖5纳米以下的刻蚀要求，以及更多针对不同关键应用的设备。在3D闪存领域，微半导体电容等离子刻蚀设备可用于64层的量产，并根据存储器厂商的需求正在研发新一代刻蚀设备和技术，可覆盖128种关键刻蚀应用和相应的极高纵横比。

此外，中威公司的感应等离子刻蚀设备已经在多家逻辑芯片和存储芯片厂商的生产线上量产。根据客户的技术发展需求，正在研发下一代产品，满足7 nm以下逻辑芯片、1nm DRAM芯片、128层以上3D NAND芯片的ICP刻蚀需求，高成品率ICP刻蚀设备正在研发中。责任编辑；基线

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